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X射線衍射儀XRD是利用X射線在晶體物質(zhì)中的衍射效應(yīng)進行物質(zhì)結(jié)構(gòu)分析的技術(shù)。每一種結(jié)晶物質(zhì)，都有其特定的晶體結(jié)構(gòu)，包括點陣類型、晶面間距等參數(shù)，用具有足夠能量的X射線照射試樣，試樣中的物質(zhì)受激發(fā)，會產(chǎn)生二次熒光X射線（標識X射線），晶體的晶面反射遵循布拉格定律。通過測定衍射角位置（峰位）可以進行化合物的定性分析，測定譜線的積分強度（峰強度）可以進行定量分析，而測定譜線強度隨角度的變化關(guān)系可進行晶粒的大小和形狀的檢測。X射線同無線電波、可見光、紫外線等一樣，本質(zhì)上都屬于電磁波，...

掃描電鏡主要由電子光學系統(tǒng)、信號探測處理和顯示系統(tǒng)、圖像記錄系統(tǒng)、樣品室、真空系統(tǒng)、冷卻循環(huán)水系統(tǒng)、電源供給系統(tǒng)七大系統(tǒng)組成而成。利用掃描電鏡分析樣品時，首先要排除外界的干擾去除假象，盡量減少這些不利因素的影響，使分析結(jié)果更準確。制樣時產(chǎn)生的影響因素分析：1.樣品制備樣品的制備是能否得到重要信息的關(guān)鍵，若使用不正確的制樣程序，不僅會得不到清晰的圖像，而且有可能得到假象，即觀察到的圖像并不是真正的樣品內(nèi)部狀態(tài)或主要成分，所以試樣制備方法的選擇對于熱加工、熱處理等工藝問題或后續(xù)加...

掃描電鏡是一個復(fù)雜的系統(tǒng)，濃縮了電子光學技術(shù)、真空技術(shù)、精細機械結(jié)構(gòu)以及現(xiàn)代計算機控制技術(shù)。掃描電鏡的基本工作過程用電子束在樣品表面掃描，同時陰極射線管內(nèi)的電子束與樣品表面的電子束同步掃描，將電子束在樣品上激發(fā)的各種信號用探測器接收，并用它來調(diào)制顯像管中掃描電子束的強度，在陰極射線管的屏幕上就得到了相應(yīng)襯度的掃描電子顯微像。電子束在樣品表面掃描，與樣品發(fā)生各種不同的相互作用，產(chǎn)生不同信號，獲得的相應(yīng)的顯微像的意義也不一樣。這些信息的二維強度分布隨試樣表面的特征而變（這些特征有...

掃描電鏡存在于我們的生活中，我們需要對它進一步地了解，以便更好地利用它為人類創(chuàng)造價值。我們來看看掃描電鏡的幾大組成系統(tǒng)吧！1.真空系統(tǒng)真空系統(tǒng)主要包括真空泵和真空柱兩部分。真空柱是一個密封的柱形容器。真空泵用來在真空柱內(nèi)產(chǎn)生真空。有機械泵、油擴散泵以及渦輪分子泵三大類，機械泵加油擴散泵的組合可以滿足配置鎢槍的SEM的真空要求，但對于裝置了場致發(fā)射槍或六硼化鑭槍的SEM，則需要機械泵加渦輪分子泵的組合。成像系統(tǒng)和電子束系統(tǒng)均內(nèi)置在真空柱中。真空柱底端即為右圖所示的密封室，用于放...

掃描電子顯微鏡（SEM）是1965年發(fā)明的較現(xiàn)代的細胞生物學研究工具，主要是利用二次電子信號成像來觀察樣品的表面形態(tài)，即用極狹窄的電子束去掃描樣品，通過電子束與樣品的相互作用產(chǎn)生各種效應(yīng)，其中主要是樣品的二次電子發(fā)射。二次電子能夠產(chǎn)生樣品表面放大的形貌像，這個像是在樣品被掃描時按時序建立起來的，即使用逐點成像的方法獲得放大像。掃描電鏡（SEM）是介于透射電鏡和光學顯微鏡之間的一種微觀形貌觀察手段，可直接利用樣品表面材料的物質(zhì)性能進行微觀成像。掃描電鏡的優(yōu)點是，①有較高的放大倍...

從理論上講，只考慮電子束斑直徑的話，加速電壓越高電子束斑的直徑越細。但是，使用高加速電壓時產(chǎn)生的不利因素也不可忽視。這主要表現(xiàn)在以下幾個方面：1）樣品表面的微細結(jié)構(gòu)不能清晰顯露；2）邊緣效應(yīng)明顯；3）容易積累電荷；4）容易損傷樣品。一般情況下，使用低加速電壓，能夠更好地觀察表面的微細結(jié)構(gòu)。使用高加速電壓，電子束在樣品中的擴散區(qū)域增大，從樣品內(nèi)部產(chǎn)生的不必要的信號（如背散射電子）會掩蓋樣品表面的微結(jié)構(gòu)。特別是在觀察密度低的物質(zhì)時，以低加速電壓為好。圖1入射電子的擴展（根據(jù)Dun...

光學平臺，光學隔震平臺，氣浮隔震平臺具有先進得隔振性能。光學平臺具有平整的表面，內(nèi)部采用蜂窩狀的設(shè)計以獲得大的剛度，另外內(nèi)部的阻尼機制大限度地減少了振動對光學平臺表面的影響。剛性，被動式和主動式光學平臺能很好地把桌面從地面的振動隔離出來。隨著先進的設(shè)備和工藝的發(fā)展，使納米量級的測量成為可能。例如，變相光學干涉儀測量物體的表面粗糙度，目前可以達到1納米的分辨率。在半導(dǎo)體領(lǐng)域，已生產(chǎn)出線寬在亞微米量級的集成電路，提出測量準確率小于50納米的精度要求。這樣的應(yīng)用對系統(tǒng)中不同元件相關(guān)...